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普雷斯等离子


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VCM马达 AR片处理

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VCM马达  AR片处理

红外滤光片在镀膜前一般都要经过超声波清洗机和离心清洗机清洗,但若想要得到超洁净的基体表面,则需进一步采用等离子表面处理,不仅能去除基体表面肉眼看不到的有机残留物,还可以利用等离子表面处理工艺对基体表面的活化和刻蚀等作用提高镀膜品质和良率。

AR(Anti-Reflection,防反射)涂层是为了减少光在镜头、显示屏或其他光学元件表面的反射,提高透过率而设计的。使用等离子清洗机处理AR涂层的作用主要包括以下几点:

表面清洁:等离子清洗可以去除光学元件表面的油脂、尘埃、残留的有机物和指纹等污染物,确保涂层与基材表面有良好的接触。

提高表面能:等离子处理能够提高光学元件表面的能级,增加表面的亲水性或疏水性,这有助于AR涂层的均匀涂覆和粘附。

改善涂层附着力:通过等离子清洗,可以活化表面,增加表面的粗糙度,从而提高AR涂层与基材之间的附着力,使涂层更加牢固。

去除弱边界层:光学元件表面可能存在一层弱边界层,这层薄膜可能会影响涂层的附着力和性能。等离子清洗可以去除这层弱边界层。

刻蚀作用:等离子体可以轻微刻蚀表面,去除微小的缺陷和污染物,使得AR涂层能够更好地覆盖在光学元件上,提高涂层的均匀性和性能。

优化涂层结构:等离子处理可以优化AR涂层的微观结构,使其具有更好的防反射性能。

减少缺陷:通过等离子清洗,可以减少涂层中的气泡、裂纹等缺陷,提高涂层的整体质量和耐用性。

提高生产效率:等离子清洗是一种干式清洗方法,不需要使用溶剂,因此可以快速进行,提高生产效率。

总之,等离子清洗机在处理AR涂层的光学元件时,能够确保涂层与基材之间的良好结合,提高涂层的性能和产品的光学质量。


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