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普雷斯等离子


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15年专业研发等离子清洗机厂家

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普雷斯科技 致力于成为

等离子清洗机 解决方案行业标杆 品牌

新闻资讯
  • 新能源汽车 800V 时代来临,为何离不开等离子表面处理

    新能源汽车800V高压平台已成为行业主流,相比传统400V架构,可有效缩短充电时间、降低能耗、提升整车续航。目前比亚迪、华为、小鹏、理想、蔚来等主流车企,均在大力普及SiC碳化硅功率模块,而模块的封装可靠性,直接影响整车高压系统的性能与使用寿命。相比传统硅基材料,SiC碳化硅拥有耐压高、损耗低、耐高温、开关速度快的优势,广泛用于车主驱逆变器、车载充电、DC/DC转换及储能系统,大幅提升整车能效。但高功率量产工况下,陶瓷基板污染、铜基板氧化、封装胶附着力差等问题频发,容易导致银烧结、键合不良,冷热循环后出现分层、失效

  • 锂电铜箔前处理新工艺 等离子(PLASMA)表面处理活化技术

    锂电铜箔是锂电池负极关键集流体,直接决定电池快充性能、循环寿命与生产良率。当下动力电池向高能量密度升级,铜箔行业全面走向超薄化、高强度、功能化,3–6μm超薄箔、700MPa高强度箔及改性功能铜箔,已广泛应用于高硅负极、固态电池等新型锂电体系。电解、压延铜箔在生产存储中,表面易残留油污、粉尘并形成氧化层,引发多重制程问题:浆料润湿差、涂布缩孔脱层;电池内阻升高、发热快充受限;铜箔与硅碳负极结合力弱,循环衰减快;极耳氧化易虚焊断焊,存在安全隐患且降低良率。传统水洗、溶剂清洁工艺清洁不彻底、能耗高,无法满足高

  • 真空等离子表面处理 赋能粉末材料高性能升级

    各类粉末材料普遍存在易团聚、表面活性低、界面结合力弱等问题,应用中易出现分散不均、粘接脱落等问题。传统湿法改性存在溶剂残留、污染大、处理不均等短板,无法满足高端粉体生产标准。真空等离子表面处理属于低温干式环保改性技术,在不改变粉末成分、粒径的前提下,可完成粉体表层清洁、活化、官能化处理,显著提升粉体分散性和亲水结合性能。中山普雷斯等离子科技作为高新技术企业,其深耕等离子设备研发,拥有成熟的粉体改性成套方案。真空等离子通过物理、化学双重机制实现高效改性。高能粒子可清洁粉体表面油污、氧化杂质,构建纳

  • 等离子清洗如何提高UV胶粘接效果?揭秘提升产品可靠性的关键工艺

    在消费电子、医疗器械、汽车电子、新能源等高端制造领域,UV胶凭借固化速度快、透明度高、粘接稳定性出色等优势,被广泛用于玻璃、塑料、金属等基材的粘接加工。实际生产中,不少企业常年被UV胶固化后脱胶、粘接不牢、局部开裂等问题困扰,产品不良率居高不下。多数厂商会盲目归咎于胶水质量,反复更换胶料、调整固化参数,却始终无法解决问题。事实上,绝大多数UV胶粘接失效,根源并非胶水本身,而是材料表面预处理不达标。作为专注等离子设备研发、生产与工艺落地的高新技术企业,普雷斯深耕精密表面处理领域多年,自研量产的等离子(PL

  • 智能驾驶逐渐普及,汽车毫米波雷达制造为何依赖等离子表面处理?

    伴随新能源汽车与 L2-L4 级智能驾驶快速落地,毫米波雷达已是整车感知系统核心部件。它不受雨雪、强光影响,广泛用于 ACC 巡航、AEB 制动、盲区监测、自动泊车等功能,普通车型搭载 3-8 颗,高阶自动驾驶车型配备数量更多,市场产能需求持续上涨。雷达生产中,PCB 贴合、雷达罩粘接、密封封装等工序对材料表面要求极高,微量油污、脱模剂都会造成开胶、漏水、虚焊,降低雷达使用寿命,因此等离子表面处理逐步成为行业标准工艺。主流 77GHz 毫米波雷达包含高频 PCB、芯片、雷达罩、外壳、密封胶等组件,高频信号传输对界面结合精度十分敏感

  • IGBT铜氧化层如何高效去除?等离子清洗来助力

    在新能源汽车、光伏逆变器、储能系统及工业自动化等核心领域,IGBT功率模块作为关键核心功率器件,其焊接品质、导电散热性能和长期运行可靠性,直接决定整机设备的稳定性与使用寿命。随着行业向高功率密度、高精度制造升级,IGBT铜基板、铜引线框架、铜母排等核心部件,在仓储存放、机械加工、高温热处理及焊接静置过程中,极易生成CuO、Cu₂O铜氧化层。氧化层会大幅降低焊料润湿性,造成焊接结合强度不足、接触电阻与散热热阻上升,极易引发虚焊、焊点空洞、散热不良、器件早衰等质量问题,严重制约功率模块量产良率与使用稳定性。传

  • AI 服务器算力爆发,先进封装为何离不开 PLASMA 等离子表面处理?

    2025 年以来全球 AI 产业飞速扩张,大模型训练、AI 推理服务器批量落地,市场对高性能 GPU、HBM 高带宽存储与先进封装技术需求激增。无论是 NVIDIA GB200、H100、AMD MI300,还是各类国产 AI 加速芯片,核心量产方案均依托先进封装技术,而等离子(PLASMA)表面处理,是封装制程中至关重要的前置工艺。传统封装无法满足 AI 芯片高算力密度、高速传输、低功耗的严苛标准,行业全面普及 2.5D、3D、CoWoS、Chiplet 等方案。2.5D 封装依靠硅中介层连通 GPU 与 HBM,3D 封装实现芯片垂直堆叠,CoWoS 更是当前主流方案。封装结构日趋精密,材料界面

  • 精密等离子处理,升级新能源/车载连接器核心性能

    连接器是车载、新能源、通讯、精密电子领域的核心传输配件,量产生产中普遍存在粘接不牢、喷涂脱落、防水密封差、接触不良、注塑分层等品质问题。普雷斯等离子(PLASMA)表面处理可覆盖连接器全制程工序,高效解决各类工艺痛点,显著提升产品良率与品质稳定性。连接器塑胶壳体常用PA、PBT、LCP等惰性材质,直接点胶、灌封极易出现开胶、缝隙、渗水问题。采用等离子活化处理,可有效提升表面活性与胶水浸润性,让粘接更紧密牢固,杜绝脱壳、松动、渗漏等缺陷。在防水密封圈、胶圈贴合前,对塑胶槽位及密封件进行等离子预处理,可大幅提升贴

  • FPC软板等离子清洗工艺,提升附着力与产品良率

    消费电子、新能源汽车等产品持续向轻薄精密化发展,FPC柔性线路板凭借可弯折、高密度布线的优势,被广泛应用于电子制造行业。量产过程中,FPC常出现附着力不足、点胶不牢、补强片脱落、焊接不稳等问题,而等离子清洗是解决这类工艺缺陷、提升产品良率的核心手段。 FPC多道生产工序易造成板面残留油污、离型剂、有机物与微尘,常规清洗无法彻底清除。这些隐蔽杂质会引发点胶不均、覆膜起泡、贴合脱落、虚焊等不良问题,增加生产成本,降低产品可靠性,因此精密表面清洁必不可少。 普雷斯等离子(PLASMA)清洗属于干式精密处理工艺,相较传

  • 半导体封装为何离不开等离子清洗?揭秘提升封装可靠性的关键工艺

    随着5G、人工智能及新能源汽车产业快速发展,半导体芯片不断向高集成、高性能、微型化升级,行业对封装工艺的精度与可靠性要求持续提高。在先进封装生产中,等离子清洗已成为保障产品品质、降低不良率的核心必备工艺。 半导体封装历经晶圆切割、芯片贴装、底部填充、塑封固化等多道工序,生产过程中,芯片、基板及引线框架表面极易残留各类微量污染物,包括助焊剂残渣、有机污渍、指纹油污与微细颗粒杂质。这类污染物肉眼难以辨识,却会严重破坏界面结合效果,直接引发粘接强度不足、焊接虚焊、封装分层、内部空洞等质量问题,导致产品

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